Kort nieuws

ASML: EUV ligt op koers

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

Imec installeert binnenkort in zijn EUV-ontwikkelmachine van ASML een 100 watt EUV-bron van Cymer. In productie zou dat goed genoeg zijn voor een doorvoer van zestig tot honderd wafers per uur. Later dit jaar levert Cymer zelfs een tweehonderd watt ’peertje‘. Lithografisch ligt EUV derhalve op koers om halverwege 2010 de eerste EUV-scanners te verschepen, vertelde ASML‘s executive vicepresident Products and Technology Martin van den Brink op het Imec Technology Forum 2009 deze week in Brussel.

De eerste generatie van ASML‘s NXE-platform voor EUV-lithografie is met een lensopening van 0,25 geschikt voor de fabricage van 28-nanometerchips in een tempo van zestig tot honderd wafers per uur. Daarmee is het volgens berekeningen van geheugenmaker Hynix met een flinke marge goedkoper dan met immersielithografie. Dat komt vooral doordat onder de 32 nanometer chipstructuren in twee stappen moeten worden afbeeld – het door chipmakers gevreesde double patterning-proces.

In 2012 zullen de Veldhovense machines meer dan 180 wafers per uur aankunnen en patronen van 16 nanometer afbeelden. Volgens Van den Brink ligt optisch gezien zelfs 5 nanometer binnen het bereik van EUV. Samsungs Kinam Kim toonde zich op het forum zelfs nog optimistischer: hij ziet voor siliciumtechnologie ook voorbij de 5 nanometer nog een toekomst weggelegd.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content