Technieuws

ASML en Imec rusten immersiemachine uit met vrije belichter

Alexander Pil
Leestijd: 2 minuten

ASML en Imec werken samen aan de kwalificatie van het Veldhovense programmeerbare Flexray-belichtingssysteem. In oktober rust het Leuvense R&D-centrum een XT:1900I-lithografiescanner uit met deze technologie. De partners hebben de werking al aangetoond op een SRam-geheugencel van 0,078 µm².

Een sleutelonderdeel van elk lithografiesysteem is de belichter. Die is verantwoordelijk voor de pupilvorm en daarmee voor de conditie en de vorm van de lichtbundel voordat die op het masker valt. Door de pupil op maat te snijden voor de specifieke lay-out, is het mogelijk de resolutie en de procesmarges te verbeteren. De optimalisatie van de pupil is dan ook cruciaal, zegt Imec, zeker nu de procestoleranties tegen hun fysieke grenzen aanlopen.

Het gebruik van een vrij instelbare belichter zorgt voor betere beelden. Dat bleek uit eerder onderzoek toen ASML en Imec de resultaten van traditionele machines vergeleken met hun vrije-belichtingstechnologie. De Veldhovense machinebouwer heeft de techniek gevangen in zijn Flexray-module, die een programmeerbare array van duizenden individueel instelbare microspiegeltjes gebruikt om in een paar minuten iedere willekeurige pupilvorm te kunnen genereren. Dat is een flinke verbetering in vergelijking met de oude methodes, waar voor elk maskerpatroon een speciaal optisch element moest worden ontworpen, aldus Imec.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content