Kort nieuws

ASML-dochter Brion vat resolutieverhogende hulpstructuren in model

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

ASML-dochter Brion breidt zijn computationeel-lithografische suite uit met een modelgebaseerde tool om 2x-nanometer-afdrukken te verscherpen met hulpstructuurtjes in het chipontwerp. Dat geeft ASML‘s klanten meer vrijheid bij het instellen van hun productieproces, verhoogt productiviteit en opbrengst en verlaagt ontwikkelingskosten, claimt Brion.

Naarmate chipstructuren krimpen, wordt het steeds lastiger om een maskerpatroon correct over te brengen op de fotolak. ASML heeft daarom, deels via softwaredochter Brion en deels met metrologische oplossingen, een arsenaal uitbreidingen op zijn machines ontwikkeld om de resolutie te verhogen. Hulpstructuren oftewel sub-resolution assist features (SRAF) die de afbeelding verbeteren zonder zelf afgedrukt te worden, zijn daar nu aan toegevoegd.

SRAF‘s zijn een gekend verschijnsel, maar nu chipstructuren ruim onder de dertig nanometer duiken, wordt het steeds complexer om de regels hiervoor toe te passen. Bovendien werken deze regelgebaseerde SRAF‘s niet goed samen met twee andere producten uit ASML‘s trukendoos, het programmeerbare belichtingssysteem Flexray en de bron-maskeroptimalisatie Tachyon SMO. SRAF‘s opstellen aan de hand van modellen in plaats van regels was tot voor kort echter geen goed alternatief. De berekeningen waren zeer tijdrovend, leverden niet de gewenste kwaliteitsverbetering op en maakten maskers een stuk duurder.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content