Warning: Undefined array key "bio" in /home/techwatch/domains/test.bits-chips.nl/public_html/wp-content/plugins/wpcodebox2/src/Runner/QueryRunner.php(126) : eval()'d code on line 13
Author:
Reading time: 2 minutes
Het onlangs op eigen benen gezette ASMI-bedrijfsonderdeel voor rapid thermal processing (RTP) gaat proberen de zonnecelindustrie warm te laten lopen voor atoomlaagdepositie (ALD). Het nog in oprichting zijnde bedrijf, dat Levitech gedoopt is, ontwikkelt een machine waarmee atoomscherpe laagjes materiaal kunnen worden opgebracht met een voor de solarwereld acceptabele doorvoersnelheid. In een gesprek met Bits&Chips zegt het Levitech-management te verwachten tegen het einde van het jaar volledig operationeel te zijn, als de onderhandelingen met investeerders zijn afgerond. Rond dat tijdstip kunnen de eerste klanten terecht om een prototype annex researchmachine te bestellen.
Een groeiend aantal chipfabrikanten gebruikt ALD om kritieke lagen van chips aan te brengen, maar gezien de relatieve traagheid van het proces ligt uitbreiding naar zonnecelproductie niet voor de hand. Levitech omzeilt dat probleem door een ALD-cyclus niet in de tijd maar in de ruimte ’uit te spreiden‘.
In de traditionele uitvoering wisselen in een ALD-reactor twee gassen elkaar cyclusgewijs af. Tijdens elke puls voltrekt zich een zelf-limiterende chemische reactie op het oppervlak van het substraat en na iedere cyclus heeft zich precies een atomair laagje afgezet. Tussen de twee reactieve gassen door moet de reactor ’gespoeld‘ worden met een inert gas om te voorkomen dat de chemicaliën in de gasfase met elkaar reageren.
De Almerenaren daarentegen zetten in op een ononderbroken proces, waarbij de machine wafers langs een repeterende serie gaszones leidt. In elke zone vindt de zelf-limiterende reactie op het oppervlak plaats en iedere keer als een wafer langs de twee complementaire gassen is geweest, is er een atomair laagje afgezet. Uiteraard moeten ook hier de reactieve gassen fysiek van elkaar gescheiden worden, dus zit er tussen elke zone met reactief gas een zone met inert gas.
Levitech vervoert de wafers op gaskussens van 0,15 millimeter dik, een technologie die voor de bestaande RTP-machinelijn Levitor is ontwikkeld. Bij RTP krijgen chipwafers een supersnelle warmtebehandeling met in massieve hitteblokken opgewarmde gassen. De Levitor verhit wafers in minder dan een seconde tot duizend graden Celsius. Dergelijke hoge temperaturen en temperatuurgradiënten zijn voor de nieuwe machine niet nodig, maar de temperatuur is wel een belangrijke procesparameter van het ALD-proces. Ook de ’ovenfunctie‘ van de Levitor komt dus van pas in het nieuwe Levitech-depositieapparaat.
Het ALD-systeem is in eerste instantie bedoeld om aluminiumoxide op te brengen, een materiaal dat al de interesse heeft gewekt voor de fabricage van efficiëntere en goedkopere zonnecellen. Levitech mikt op een doorzet van meer dan 2400 wafers per uur. Overigens blijft het bedrijf de ’oude‘ Levitor leveren aan hun klanten in de halfgeleiderindustrie.
