Kort nieuws

ASMI en Oxford Instruments leggen samen atoomlagen

Leestijd: 1 minuut

ASM International heeft Oxford Instruments toegang gegeven tot zijn atoomlaagdepositie (ALD)-technologie. De Britse toolbouwer mag meer dan 280 ASMI-patenten gebruiken bij de ontwikkeling van zijn nieuwe ALD-producten en -processen. Financiële details hebben de partijen niet bekendgemaakt. Eerder dit jaar tekende ASMI ook een overeenkomst met Veec Instruments. De Amerikaanse apparatenbouwer past Bilthovense kennis toe in zijn nieuwe generatie ALD-platforms voor de geheugenmarkt. De Bilthovenaren leveren ook zelf ALD-apparatuur. ASMI liet afgelopen april weten dat een grote Amerikaanse klant atoomlaagdepositiemachines had besteld voor de productie van 300 mm wafers met 65 nm details. Een naam gaf het bedrijf niet vrij, maar waarschijnlijk ging het om Intel.

Met ALD is het mogelijk extreem dunne films atoomlaag voor atoomlaag op een substraat te plaatsen. Het biedt goede controle van de compositie en de dikte. Behalve voor halfgeleiders is de depositiemethode ook geschikt voor de productie van magnetische koppen, micromechanische schakelingen, nanotechnologie en opto-elektronica. Marktonderzoeker VLSI Research verwacht dat de markt voor ALD-apparatuur zal groeien van 140 miljoen dollar nu naar 700 miljoen dollar over vijf jaar.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content