AMD en IBM maken goed gebruik van ASML’s immersiescanner


Warning: Undefined array key "bio" in /home/techwatch/domains/test.bits-chips.nl/public_html/wp-content/plugins/wpcodebox2/src/Runner/QueryRunner.php(126) : eval()'d code on line 13

Author:

Reading time: 1 minute

Tijdens de International Electron Device Meeting (IEDM) hebben AMD en IBM gezamenlijk 45 nanometer microprocessoren gepresenteerd die zijn gemaakt van een 193 nanometer immersiescanner van ASML. Bovendien wisten de elektronicagiganten interconnecties met ultralage k-factor te incorporeren. De eerste producten komen naar verwachting halverwege 2008 op de markt. Bij de schaling van IC‘s komen componenten steeds dichter bij elkaar te liggen. Op 45-nanometerniveau vragen fabrikanten daarom steeds meer van de isolatoren die de verschillende draadjes elektrisch van elkaar scheiden. Vroeger was de hoop vaak op exotische – dus dure – materialen gevestigd, maar AMD en IBM maakten gebruik van het traditionele siliciumoxide. Zij pasten echter het productieproces aan.

AMD en IBM ontwikkelden 45 nanometer microprocessoren met technologie uit Veldhoven.

Traditioneel testen fabs hun productieproces met de fabricage van SRam-chips. De Amerikaanse onderzoeksalliantie hadden vorig jaar al laten zien dat deze 15 procent sneller zijn dan hun voorgangers.

Intel zal de partners waarschijnlijk voor zijn. Productietopman Mark Bohr liet in november al weten dat Intel 45 nanometer microprocessoren kan maken en bezig was ze te testen. Hij zei deze Penryn-generatie eind 2007 te kunnen gaan verkopen.